Feinstreinigung von Prozesslösungen im Electronic-Grade-Bereich

Halbleiter/Reinstwasser
Beratung/Engineering
BASF SE, Electronic Materials Entsalzung von H2O2 per Ionenaustausch 2008
Spezialproduktion
BASF SE, Electronic Materials Feinentsalzung von Tensid (Technikums Produktion nach GMP) 2009
BASF SE, Electronic Materials Musterproduktion hochreines Tensid im Technikums Maßstab (electronic grade) 2015
Versuch/Pilotierung
BASF SE, Electronic Materials Versuche zur Na-, Fe-Reduzierung aus Maleinsäure/Acrylsäure-Lösung 2008
BASF SE, Electronic Materials Entwicklungsleistungen zur Entfernung von Natrium aus Methoxypropanol-Lösung 2012
BASF SE, Electronic Materials Laboraufreinigung von Sokalan CP 13S 2014
BASF SE, Electronic Materials Machbarkeitsstudie zur Feinreinigung von Propylencarbonat 2014
BASF SE, Electronic Materials Machbarkeitsstudie zur Kupfer-Rückhaltekapazität 2017
BASF SE, Electronic Materials Leaching-Test von IEX-Harzen durch IPA 2017
BASF SE, Electronic Materials Versuche zur K-Entfernung aus Tensid Lösung 2017
BASF SE, Electronic Materials Laborversuche zur IPA-Aufreinigung mit IEX 2017

Gesamte Referenzliste
Referenzliste Halbleiter / Reinstwasser

Kommentare sind geschlossen.